
42
Czyszczenie maski w domu
• Maska i część nagłowna mogą być czyszczone wyłącznie ręcznie. Część nagłowna
może być czyszczona bez odłączania zatrzasków.
• Podczas czyszczenia zachować ostrożność, aby nie uszkodzić maski i nie zgubić
elementów.
Codziennie/po każdym użyciu
• Aby zapewnić optymalną szczelność, przed użyciem maski z powierzchni
uszczelki należy usunąć zanieczyszczenia (pochodzące z twarzy pacjenta).
• Nie moczyć maski.
• Maskę czyścić ręcznie poprzez delikatne pocieranie w ciepłej wodzie (30°C) z
użyciem łagodnego mydła lub rozcieńczonego płynu do zmywania naczyń.
• Wypłukać starannie wszystkie elementy w wodzie pitnej i pozostawić do
wyschnięcia w miejscu nienarażonym na bezpośrednie działanie promieni
słonecznych.
• Jeśli doszło do zablokowania otworu odprowadzającego powietrze, należy go
oczyścić szczoteczką o miękkim włosiu.
Co tydzień
Część nagłowną umyć ręcznie w ciepłej wodzie (30°C) z użyciem łagodnego
mydła lub rozcieńczonego płynu do zmywania naczyń. Wypłukać starannie i
pozostawić do wyschnięcia wmiejscu nienarażonym na bezpośrednie działanie
promieni słonecznych.
Specy kacja techniczna
Krzywa zależności ciśnienia i przepływu – Wszystkie maski
Przepływ przez otwory
odprowadzające powietrze (L/min)
0
10
20
30
40
50
60
468101214161820
Ciśnienie wewnątrz maski (cm H
2
O)
Ciśnienie Przepływ (L/Min)
Swift FX/
Swift FX for Her
Swift LT Swift II
4 cm H
2
O20 20 20
8 cm H
2
O29 29 29
12 cm H
2
O37 37 37
16 cm H
2
O43 43 43
20 cm H
2
O49 49 49
Informacje dotyczące objętości martwej: Pusta objętość maski do obrotowej
końcówki. Martwa objętość maski zależy od rozmiaru uszczelk.
Swift FX/
Swift FX for Her
Swift LT Swift II
106 Ml (Duży) 94 Ml (Duży) 91 Ml (Średnia)
Ciśnienie terapeutyczne (cm H
2
O)
Swift FX/
Swift FX for Her
Swift LT Swift II
4-20 4-20 4-20
Opór: Mierzony spadek ciśnienia (wartość nominalna) (cm H
2
O)
Swift FX/
Swift FX for Her
Swift LT Swift II
przy 50 L/min 0,4 0,6 0,4
przy 100 L/min 1,4 2,0 1,6
Komentarze do niniejszej Instrukcji